Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы скачать

Название: Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
Автор: Киреев В.Ю., Столяров А.А.
Издательство: Техносфера
Год: 2006
Страниц: 192
ISBN: 5-94836-039-3
Формат: PDF
Размер: 4.2 Mб
Язык: русский
Серия: Мир электроники


Проведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития. Приведены основные характеристики элементов микроструктур ИМС, получаемых в процессах ХОГФ, а также технологические характеристики самих процессов и используемых реагентов. Рассмотрены параметры оборудования для реализации процессов ХОГФ и проведен анализ его возможностей, достоинств и недостатков при осаждении функциональных слоев микросхем. Приведены основные электрофизические характеристики осаждаемых пленок.

Для инженеров-технологов и научных работников, использующих в своей практической работе химическое осаждение пленок из газовой фазы. Книга может быть полезна также студентам старших курсов, аспирантам и преподавателям вузов.

letitbit.net

cash-file.com

shareflare.net

depositfiles.com